Июль 30th, 2013
Сущность ионного азотирования заключается в следующем. В разреженной азотсодержащей атмосфере между катодом (деталью) и анодом возбуждается тлеющий разряд и ионы газа, бомбардируя поверхность катода, нагревают ее до температуры насыщения. Температура азотирования составляет 470—580 °С, разрежение 1,3-102—13-102 Па, рабочее напряжение колеблется от 400 до 1100 В, продолжительность процесса — от нескольких минут до 24 ч.В качестве азотсодержащих газов применяют аммиак, азот и смесь азота с водородом. В азотной плазме присутствие кислорода недопустимо, так как при этом уменьшается активность рабочей атмосферы; водород незначительно влияет на рост слоя.сирующиеся на поверхности катода, являются наряду с газовой фазой самостоятельным источником азота.Процесс азотирования в тлеющем разряде значительно ускоряется при кратковременных выдержках (от нескольких минут до 20 ч). Так как ионная бомбардировка действует только на процессы адсорбции и диффузии в поверхностной зоне толщиной не более 0,05 мм, с увеличением продолжительности процесса (>20 ч) преимущество в скорости формирования слоя при ионном азотировании по сравнению с печным уменьшается (рис. 35).Ионное азотирование позволяет оптимизировать слои по структуре и фазовому составу.Регулируя состав газовой атмосферы и соотношение процессов катодного распыления и обратной диффузии (обратного катодного распыления), можно получить слой на базе азотистого а-твердого раствора без поверхностной нитрид-ной зоны с однофазной у-зоной или карбоиитридной е-фазой.
