Поэтому вакуумное силицирование проводят с использованием

Поэтому вакуумное силицирование проводят с использованием порошков высокочистого кремния.Добавки активаторов ускоряют рост силицидных слоев, но снижают их защитные свойства. По производительности вакуумный способ силицирования значительно уступает контактному и неконтактному способам газового силицирования, но обеспечивает лучшие защитные свойства слоев.Слои, полученные при вакуумном силицировании иа молибдене, вольфраме и тантале в насыщенных парах кремния без контакта частиц порошка кремния с металлом при 1200 и 1250 °С, состояли в основном из дисилицидов: имелись также небольшие прослойки низших силицидов между основой и дисилицидом. В дисилициде тантала обнаружены включения низшего силицида Ta5Si3, вытянутые в направлении диффузии кремния [241, с. 45]. Кинетические кривые роста слоев дисилицидов молибдена, вольфрама и тантала в паровой фазе приведены на рис. 85.На цилиндрических образцах в процессе силицирования возникают продольные трещины вследствие увеличения объема при образовании силицида, приводящего к появлению растягивающих напряжений на внешней границе слоя.В процессе вакуумного неконтактного силицирования в сублимированной фазе ниобиевого сплава ВН-4 с использованием кремния КрО (частицы размером 5—10 мм) в вакуумной печи МПВ-3 при разрежении 5- Ю-3 Па при 1300 °С в течение 10—12 ч получены слои толщиной 50—70 мкм [3]. Наружный слой толщиной 45—50 мкм представлял собой дисилицид ниобия NbSi2 с микротвердостью Яд= 12000-М1 000 МПа, внутренний — силицид Nb5Si3 с Яд = 10 000 МПаВ процессе вакуумного неконтактного силицирования в сублимированной фазе ниобиевого сплава ВН-4 с использованием кремния КрО (частицы размером 5—10 мм) в вакуумной печи МПВ-3 при разрежении 5- Ю-3 Па при 1300 °С в течение 10—12 ч получены слои толщиной 50—70 мкм [3]. Наружный слой толщиной 45—50 мкм представлял собой дисилицид ниобия NbSi2 с микротвердостью Яд= 12000-М1 000 МПа, внутренний — силицид Nb5Si3 с Яд = 10 000 МПа