Алюминиевые покрытия этим методом можно наносить практически

Алюминиевые покрытия этим методом можно наносить практически на все материалы, выдерживающие нагрев до 270 °С. Применяемый для металлических материалов последующий диффузионный отжиг приводит к образованию на поверхности интерметаллических соединений.Одним из способов насыщения металлов из газовой фазы является алитирование циркуляционным методом [80, с. 130; 285, с. 107; 324—326].Электролизное алитирование в расплавах солейДля создания алитированного слоя можно производить электролизное осаждение алюминия на поверхности стали при 200—300 °С с последующим диффузионным отжигом. Для этой цели применяют расплавленные смеси следующих составов: 1) 75% А1С13 + 25% ,NaCl или 50% А1С13 + 50% NaCI (процесс ведут при 200—250 °С, плотности тока электролиза = 1Адм2) [296];2)75% А1С13 + 23% КС1 + 2%К1 или 80% A1C1S +18,5% NaCI + + 1,5% NaF (процесс ведут при 300 °С) [327].Электролизное алитирование в расплавах солей при высоких температурах (800—950 °С) характеризуется высокой скоростью насыщения. Так, в солевом расплаве [25% (мол.) безводного А1С13 и 75% (мол.) NaCI] при температуре 800 °С и плотности тока электролиза 0,5 Адм2 в течение 4 ч на углеродистой стали образуется слой толщиной ~1,5 мм [328].В качестве ванны для алитирования (WIjAIFb) [328 [. Однако при температурах выш¦11Я- Зля алитирования меди и латуни применяют расплав следующего с f.h 1.3% A1F3. 8—20% NaaAIFe, 25—45% KCI и 37—57% NaCl [71 Процесс в ой ванне ведут при 680— 8 1°С и плотности тока электро- Л тм лиза 1, Б—4.5 Адм*Зля алитирования меди и латуни применяют расплав следующего с f.h 1.3% A1F3. 8—20% NaaAIFe, 25—45% KCI и 37—57% NaCl [71 Процесс в ой ванне ведут при 680— 8 1°С и плотности тока электро- Л тм лиза 1, Б—4.5 Адм*