Июль 30th, 2013
Растворимым электродом служит титановый тигель. Оптимальная плотность тока равна 0,1—0,3 Асм2 в зависимости от температуры процесса, которая колеблется в пределах 800— 900 °С. Толщина титанированного слоя достигает нескольких десятков микрон, а толщина глубже расположенной диффузионной зоны — нескольких микрон.Электролизное титанирование при отсутствии растворимого титанового анода проводят, например, в расплаве из 16% K2TiFe и 84% NaCI. Анодом служит графит, над зеркалом ванны создается атмосфера аргона. Температура процесса 850—900 °С, плотность тока 95 Адм2, напряжение 3—6 В. По другим данным, в ванну рекомендуется дополнительно вводить титановую губку. При титанировании получается покрытие толщиной 0,02—0,075 мм. Этого достаточно для образования коррозионностойкой поверхности.Безэлектродное титанирование проводят в расплаве NaCI или NaCI + КС1, в который вводятся порошок сплава титана, сильно загрязненного кислородом (ТЮ*) (использование порошка чистого титана дает плохие результаты). Титанирование этим методом осуществляют, например, в расплаве из 90% NaCI и 10% ТЮ* под защитой аргона. При насыщении таким образом стали 08 при температуре 950 °С и выдержке 4 ч общая толщина слоя составляет 75 мкм, из них верхняя зона слоя толщиной 10 мкм является интерметаллидом TiFe2, а остальное — твердый раствор титана в сс-железе; при 1000 °С общая толщина слоя равна 82 мкм и зона TiFe2 12 мкм, при 1050 и 1100°С соответственно 0,20 и 0,3 мм [380].Первые эксперименты по титанированию из паровой фазы в вакууме описаны в работе [18].
