Июль 30th, 2013
Боросилицированные слои на тугоплавких материалах получают чаще всего последовательным способом насыщения [404, с. 112, 116; 504, 505]. Борирование осуществляют в порошке технического карбида бора с добавкой 5% NaF либо в порошке аморфного бора с добавками или без добавок фторсодержащего активатора. Процесс ведут при 1100° С, время насыщения изменяют от 3 до 10 ч в зависимости от требуемой толщины борированного слоя. Силицирование проводят в порошке кремния с добавкой 5% NaF при 1100° С, время насыщения также определяется толщиной слоя.В работе [506] указано на возможность получения легированного бором си-1ШШДНОГО покрытия на молибдене введением в расплав Си—Si до 20 % В.Авторы исследований [33, с. 90; 243, с. 54; 507] осуществляют бороси-Иицнрование тугоплавких металлов одновременным способом из порошковых смесей, содержащих инертную добавку, источник галогенидов, а также порошки бора п кремния.Микротвердость формирующихся фаз составляет на ниобии для NbSi2 11 400 МПа, для NbB 27 150 МПа [22]; на молибдене для MoSi2 14 400 МПа, для It-MoB 25 500 МПа; на вольфраме для WSi2 14 000 МПа, для a-WB 35 000 МПа.Зависимости толщины силицидных слоев от толщины боридных подслоев, колученные при различных режимах силицирования, а также кинетика силици-повання борированных молибдена и ниобия представлены соответственно на рнс. 248, 249 [404, с. 112].Кинетика роста боридных слоев при борировании силицированных молибдена н ниобия приведена на рис. 250.В работе [404, с. 112], установлено, что боросилицидные слои на молибдене обладают более высокой надежностью при температурах выше 1900° С, чем сили-цпдные.
