Июль 30th, 2013
Чаще всего его проводят в контейнерах с полками, на которые укладывают титан, а между ним изделия. Титан целесообразно использовать в форме, обладающей высокоразвитой поверхностью испарения, а изделия следует располагать на минимально возможном расстоянии от титана, без непосредственного контакта между ними. Заполненный контейнер накрывают крышкой и вводят в горизонтальный муфель с внешним обогревом. После достижения вакуума 1-10~2—5 10-3 Па муфель нагревают до рабочей температуры 950 1000 °С [33, с. 116; 92, с. 103; 243, с. 69].Толщина слоев, полученных этим методом при 1050° С и выдержке 16 ч, составляет 0,34 мм на стали 08кп (рис. 154), 0,13 мм на стали 30, 0,08 мм на стали 45 и 0,12 мм на стали 12Х18Н10Т.Газовое титанирование можно проводить в газовых смесях: a) TiCl4 -)- Н2; б) Til4 + Н2; в) TiBr4 + Н2 и др. Водород пробулькивается через сосуд с TiCl4, нагретый до 40—50 °С, или через TiBr4 (50—100 °С), или через Til4 (160—250 °С). Водород играет в этих процессах роль носителя и роль восстановителя.В Японии предложен следующий метод титанирования: над гидридом титана, нагретым до 750—1000 СС и выделяющим водород, пропускают смесь TiCl4 (парциальное давление 3,5—8,0 Па) с газом-носителем (нейтральным газом или водородом). Затем газовую смесь пропускают под нагретыми до 1000 °С деталями.Рис. 154. Зависимость толщины слоя h на стали 06кг от температуры и выдержки при вакуумном титаиироваиии [33. с. 116]Опробован газовый метод титанирования, при котором аргон транспортирует пары TiCl4 над сосудом с расплавленным магнием.
