Июль 30th, 2013
На ниобии и его сплавах с вольфрамом, рением, палладием и танталом при вакуумном силицировании в порошке кремния чистотойД99,99% при 1175— 1300″С образуются слои, состоящие из силицида ниобия и прослойки силицида Nb5Si3 [283, с. 68].Газовое силицирование тугоплавких металлов и титана осуществляют в смеси паров SiCl4, НС1 или С12 с водородом, азотом, аргоном или гелием в присутствии порошка кремния прямоточным и циркуляционным способами, а также в тлеющем разряде.На вольфраме в результате силицирования в среде SiCl4 + Н2 при температурах выше 1000—1200 °С образуется в основном дисилицид WSi2, на молибдене — наряду со слоем дисилицида имеется прослойка низшего силицида MobSi3. Ниже температуры плавления кремния (1420 °С) слои имеют трехфазное строение (кремний, дисилицид и низший силицид), при более высоких температурах низший силицид отсутствует [3].Слой, полученный на легированном молибденом ниобиевом сплаве сили-цированием в тетрахлориде кремния при 1050 °С, состоит из слоя силицида (Nb, Мо) Si2 толщиной 15 мкм и двухфазного слоя (дисилицид ниобия и твердый раствор кремния в ниобии) толщиной 45 мкм [283].Циркуляционный способ газового силицирования более прост и экономичен по сравнению с прямоточным, обеспечивает получение плотных равномерных слоев. Устранение расслоения газового потока, характерного для прямоточных установок (водород вверху, хлориды внизу), приводит к увеличению скорости силицирования [80, с. 165, 170, с. 61].Применение тлеющего разряда при оптимальных режимах позволяет значительно увеличить скорость роста силицированных слоев на тугоплавких металлах.
