Июль 30th, 2013
В результате цементации танталовой проволоки в среде С2Н4 + + H2-f Аг при 2400 °С получается слой, состоящий из карбидов ТаС и Та2С примерно одинаковой толщины (10 мкм). За 1 мин толщина слоя Та2С достигает 50 мкм, а за 30 мин происходит сквозная цементация проволоки толщиной 0,25 мм с образованием ТаС. Свойства полученного таким образом карбида тантала следующие: ов = 210-V-250 МПа, работа выхода электронов 3,17 ± 0,06 эВ, удельное электрическое сопротивление при ИЗО—3220°С р= (102 ± 0.0178Т)- 10~в Ом-см. Коэффициент лучеиспускания при 2230—3230 °С равен примерио0,40—0,46 [138].В результате цементации при температурах 1800 —2200 °С и выдержки от скольких минут до 200 ч получаются карбиды различного состава — от ТаС0,40 ГаС0,91 [92, с. 140]. Карбид ТаС0>8 имеет максимальную микротвердость — 000 МПа.При науглероживании в активной смеси Аг — 10% СН2 на тантале и сплаве — 10% W образуются карбиды ТаС и Та2С.Испытания при изгибе образцов проволоки после сквозной цементации попали, что их прочность при 20 °С в 2 раза, а при 1600 °С в 1,5 раза выше, чем глллокерамических образцов такого же состава [139].Цементация электролитических хромовых покрытий, осажденных на армко-глезе, сталях ХГ и 18ХНМА, приводит к образованию трех последовательно неположенных карбидных слоев. Внешний тонкий слой состоит из высшего лрбнда хрома Сг3С2, средний, более толстый слой — из карбида Сг,Сз; внутрен-тонкий слабо травящийся слой — из Сг23С6. Далее расположен остаточный лпй некарбидизированного хрома и переходная зона из твердого раствора хрома основном металле [139].
