Апрель 15th, 2013
— химический состав поверхностного слояобъекта (СТМ-спсктроскопия). Для реализацииСТМ-спсктроскопии требуется свести до минимумауровень помех, т.е. провести исследованияв специальных виброзащищенных помещениях.Требования к объектам исследованияи методы их подготовки. К объектам дляисследования на СТМ предъявляют два основныхтребования: низкая шероховатость поверхностии хорошая проводимость материала.Требования к шероховатости поверхностирегламентируются возможностью перемещениязонда сканера по нормали к поверхностиобъекта, т.е. технической характеристикоймикроскопа.Для существования туннельного токамежду зондом и поверхностью се электрическоесопротивление, измеренное между щупамитестера, расположенными на расстоянииоколо 1 см, не должно превышать 2 кОм.Из требований к исследуемой поверхностивытекают методы ее подготовки. Во-первых, желательно, чтобы поверхность образцабыла полированной (с R a « 0,025 мкм).Во-вторых, если сопротивление поверхностипревышает 2 кОм, то на нее напыляют тонкуюпроводящую пленку (часто из графита) толщиной1…4 нм. При этом разрешение изображенияструктуры поверхности уменьшается назначение, соответствующее толщине пленки.Необходимо иметь в виду, что на большинствеметаллов и их сплавов с течениемвремени образуются оксидные пленки. Пока ихтолщина мала, они не мешают наблюдать заповерхностью металла. Это объясняется тем,что радиус нахождения поверхностного электрона(дсбасвский радиус) проводящей поверхностиобъекта увеличивается до 10…20 нмпри контакте этой поверхности с диэлектрическимпри контакте этой поверхности с диэлектрическим
